超臨界乾燥機
最終更新日：2025年12月1日
| 設備ID | NU-246 |
|---|---|
| 分類 | 表面処理・洗浄 > ＣＯ２洗浄 |
| 設備名称 | 超臨界乾燥機 (Supercritical Dryer) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | IB電子情報館西棟5階 |
| メーカー名 | KISCO (KISCO) |
| 型番 | SCLEAD3CD2000 |
| キーワード | 超臨界乾燥 |
| 仕様・特徴 | KISCO SCLEAD3CD2000 ・設計温度：100 ℃ ・設計圧力：20 MPa |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=NU-246 |
