4インチ高真空EB蒸着装置
最終更新日：2026年5月8日
| 設備ID | UT-700 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 4インチ高真空EB蒸着装置 ( Ultra high vacuum evaporator) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | 自作 (Home made) |
| 型番 | NSPⅡ |
| キーワード | EB蒸着、電子線蒸着 |
| 仕様・特徴 | 東大拠点で独自設計・自作した蒸着装置で、いわゆる抵抗加熱蒸着と電子線（EB）加熱蒸着との両方がが可能。 主な材料はAu,Cr,Ti,Al,SiO2。最大サンプルサイズ：4" |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=UT-700 |
