6元スパッタ装置
最終更新日：2026年4月30日
| 設備ID | RO-325 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > |
| 設備名称 | 6元スパッタ装置 (6-target Sputtering system) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR東棟１F |
| メーカー名 | ケニックス (Kennix) |
| 型番 | PGS-260LS |
| キーワード | スパッタリング、薄膜形成 |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：最大Φ4インチまで対応可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=RO-325 |
