イオンミリング装置
最終更新日：2026年4月30日
| 設備ID | IT-041 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > ガスエッチング |
| 設備名称 | イオンミリング装置 (Ion-beam milling system) |
| 設置機関 | 東京科学大学（旧：東京工業大学） |
| 設置場所 | 科学大学大岡山キャンパス |
| メーカー名 | 伯東 (Hakuto Co., Ltd.) |
| 型番 | IBE-KDC75 |
| キーワード | 微細構造形成、ドライエッチング / Dry etching |
| 仕様・特徴 | Arガスを用いたイオンビームエッチング サンプルサイズは2inch以内で任意形状可能（留め具により垂直に固定） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=IT-041 |