NLDエッチング装置
最終更新日：2026年4月1日
| 設備ID | TU-219 |
|---|---|
| 分類 |
膜加工・エッチング > プラズマエッチング 表面処理・洗浄 > プラズマ処理 |
| 設備名称 | NLDエッチング装置 (NLD etcher) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (Ulvac) |
| 型番 | NLD-5700 |
| キーワード | 磁気中性子線、ドライエッチング、圧電体、SiC、石英、サファイア、Si、化合物（一部）、カセット |
| 仕様・特徴 | 磁気中性線プラズマ（NLD）による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載した、石英やSiCなどの難エッチング材料の深掘りが可能なドライエッチング装置 ・サンプルサイズ：小片～4インチ、6インチ、または、8インチ ・基板固定方式：メカチャック ・プラズマ方式：NLD ・ガス：CF4/SF6、CHF3/C4F8、Ar、H2、O2/N2、Cl2、BCl3 ・ロードロック、カセット式 ・エッチング対象：圧電体、SiC、石英、サファイア、Si、GaNなどの化合物（一部）、など ・GaAsやInPなど、AsやInなどの毒性のある物質が含まれる薄膜やウェハのエッチングは不可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TU-219 |
