マスクレスアライナ#2
最終更新日：2026年4月1日
| 設備ID | TU-072 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレスアライナ#2 (Maskless aligner #2) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments) |
| 型番 | MLA150 |
| キーワード | マスクレス、直接描画、超高速、Crマスク作製、裏面アライメント、Siウェハ、化合物ウェハ、ガラスウェハ |
| 仕様・特徴 | 高速直接描画が可能なマスクレスアライナ 既存機（1号機）より375 nmレーザ出力増大 ・サンプルサイズ：小片（5ｘ5 mm）～8インチ ・波長：405 nm 、375 nm ・レーザ出力：405 nm：8W、375 nm：7W ・最小描画線幅：1 µm ・超高速直接描画：4インチ領域で約15分（405 nm時） ・裏面アライメント（バックサイドアライメント）可能 ・チャック交換により、小片ウェハもバックサイドアライメント可能 ・オプティカルフォーカスあり（小片露光時有用） ・高アスペクトレシオ描画モードあり |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TU-072 |
