自動現像装置 [AD-1200]
最終更新日：2025年11月4日
| 設備ID | NM-670 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | 自動現像装置 [AD-1200] (Automatic Developer [AD-1200]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟102室 |
| メーカー名 | 滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO) |
| 型番 | AD-1200 |
| キーワード | フォトリソグラフィ、レジスト現像、アルカリ現像、TMAH2.38%、Photolithography, Resist development, TMAH2.38% |
| 仕様・特徴 | ・用途：フォトレジストの自動現像 ・処理方法：スプレー式またはパドル式 ・使用薬液：TMAH2.38% ・基板ホルダー：真空吸着式 ・基板回転数：0～3000rpm ・処理時間：999sec/step（1sec単位） ・適応サイズ：20mm角～φ6インチウェハ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=NM-670 |
![自動現像装置 [AD-1200]](data/facility_item/1761525881_24.jpg)