マスクレス露光装置（DL-2500iA1）
最終更新日：2025年10月1日
| 設備ID | AT-120 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置（DL-2500iA1） (Maskless Lithography System (DL-2500iA1)) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions) |
| 型番 | DL-2500iA1 |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 試料サイズ：4インチφ 、100mm□ 光源：365nm（LED） 露光最小画素：□ 1μm 最大露光領域：100mm×100mm 重ね合わせ精度：3σ＜0.5μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=AT-120 |
