パリレン成膜装置
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-208 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | パリレン成膜装置 (Prylene Deposition System) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | 日本パリレン (Parylene Japan) |
| 型番 | PDS2010 |
| キーワード | MEMS/センサ用保護成膜 絶縁膜 パリレン |
| 仕様・特徴 | 方式：抵抗加熱 対応試料：100mm角以下 材料：Parylene-C, N その他パリレン材料持ち込み可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-208 |
