誘電体膜スパッタ装置(EB-1100)
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-207 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | 誘電体膜スパッタ装置(EB-1100) (Dielectric Deposition System) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | キヤノンアネルバ (Canon Anelva) |
| 型番 | EB-1100 |
| キーワード | MEMS/センサ、光学デバイス用酸化膜成膜 RFスパッタ |
| 仕様・特徴 | 方式：RFスパッタ 対応試料：φ4インチ3枚 材料：SiO2、SiN |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-207 |
