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汎用メタルスパッタ装置(Noyes)

最終更新日:2025年9月24日
設備ID TH-204
分類 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ)
設備名称 汎用メタルスパッタ装置(Noyes) (Metal Deposition System (Noyes))
設置機関 豊橋技術科学大学
設置場所 IRES2
メーカー名 ノイエス (Noyes)
型番 RFS-400
キーワード MEMS/センサデバイス用金属膜成膜
RFスパッタガン
仕様・特徴 方式:RFガン、フェイスダウン
ターゲットサイズ:φ2インチ
対応試料:φ4インチ以下
材料:Ti,Pt,Au,Ir その他金属持ち込み可能
基板回転機構あり
ターゲットサイズが小さいため、貴金属材料の成膜に向く
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-204
    汎用メタルスパッタ装置(Noyes)
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