超臨界洗浄・乾燥装置(SCRD4)
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-153 |
|---|---|
| 分類 | 表面処理・洗浄 > ＣＯ２洗浄 |
| 設備名称 | 超臨界洗浄・乾燥装置(SCRD4) (Supercritical Cleaning and Drying System) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | レグザム (Rexxam) |
| 型番 | SCRD4 |
| キーワード | MEMS/センサプロセスにおける乾燥処理 CO2超臨界 |
| 仕様・特徴 | MEMS可動構造形成時の水洗後乾燥をCO2超臨界乾燥にて行え、微小可動構造の破損やスティクションを防止。φ4インチウェハサイズまで対応 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-153 |
