多元材料原子層堆積(ALD)装置
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-169 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
| 設備名称 | 多元材料原子層堆積(ALD)装置 (ALD) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 3Fクリーンルーム |
| メーカー名 | テクノファイン (Technofine) |
| 型番 | ALK-600 |
| キーワード | 東北大学が設計した特注の装置 Al2O3、Pt、Ru |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～6インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TU-169 |
