マスク加工装置(KES-200NP2)
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-151 |
|---|---|
| 分類 |
表面処理・洗浄 > ウェット処理 膜加工・エッチング > ウェットエッチング |
| 設備名称 | マスク加工装置(KES-200NP2) (Mask Fabrication System) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | カナメックス (Kanamex) |
| 型番 | KES-200NP2 |
| キーワード | 集積回路・MEMS/センサプロセス用マスク乾板製造 クロムエッチング 硫酸過水 |
| 仕様・特徴 | マスク乾板製作時のクロムエッチングおよび硫酸過水によるレジスト剥離装置、イエロールーム内に設置。 対応乾板サイズ：5インチ角 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-151 |
