レジスト塗布装置(MS-B100)
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-562 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | レジスト塗布装置(MS-B100) (Coater and Developer system) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES² |
| メーカー名 | ミカサ (Mikasa) |
| 型番 | MS-B100 |
| キーワード | リソグラフィプロセス レジスト塗布 |
| 仕様・特徴 | 試料サイズ：φ10mm～φ4インチ レジスト：OMR,OFPR,iP3100 その他応相談 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-562 |
