レジスト塗布・現像装置
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-561 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | レジスト塗布・現像装置 (Coater and Developer system) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES² |
| メーカー名 | ASAP (ASAP) |
| 型番 | FRD4-000-07(original) |
| キーワード | リソグラフィプロセス レジスト塗布・現像処理 |
| 仕様・特徴 | i線ステッパ専用のレジスト塗布・現像装置 試料サイズ：φ4インチ レジスト：THMR-iP3100HS LB 15cP（HDMS塗布可） 現像液：NMD-3 リンス液：DIW その他レジスト利用については応相談 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-561 |
