マスクレス露光装置
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-514 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless lithography system) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES² |
| メーカー名 | 大日本科研 (Japan Science Engineering) |
| 型番 | MX-1205 |
| キーワード | マスクブランクス（ガラス基板）のパターン描画 マスクレス描画 アライメント描画 |
| 仕様・特徴 | デジタル・ミラー・デバイス（DMD）によって、露光パターンを生成するマスクレス描画装置。光学エンジンを2基搭載。 対象基板：Si、フォトマスク 基板厚さ：6mm以下 描画領域：～200mm角以下 光学エンジン：3μm、1μm切替方式 最小線幅；0.8μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-514 |
