両面アライン露光装置
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-513 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 両面アライン露光装置 (Double-Sided Aligner) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES² |
| メーカー名 | SuSS (SuSS) |
| 型番 | MA6 BSA |
| キーワード | 集積回路、MEMSのパターン形成、裏面アライメント対応 |
| 仕様・特徴 | 対応基板：20mm角～φ4インチ マスクサイズ：2.5インチ～5インチ 裏面アライメント可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-513 |
