コンタクト露光装置(2インチ)
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-511 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | コンタクト露光装置(2インチ) (Contact lithography system(for 2inch)) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES² |
| メーカー名 | キヤノン (Canon) |
| 型番 | PLA-501(F) |
| キーワード | 集積回路・MEMSのパターン形成 コンタクト露光 |
| 仕様・特徴 | 自動ローディング機構付き2台、自動ローディング無し1台 光源：i～h 対応基板：φ2インチ マスクサイズ：5インチ 特記事項：自動ローディング無し装置はφ2インチ以下も対応可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-511 |
