i線露光装置
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-501 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（ステッパ） |
| 設備名称 | i線露光装置 (i-line lithography system) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES² |
| メーカー名 | ニコン (Nikon) |
| 型番 | NSR-TFHi12CH |
| キーワード | 集積回路の微細パターン露光 i線 |
| 仕様・特徴 | i線の1/5縮小投影露光装置 対応基板：Si基板専用 φ4インチ マスク仕様：5インチ(青板) 最大露光サイズ：20mm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-501 |
