熱処理装置
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-403 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | 熱処理装置 (Thermal Processing System) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES² |
| メーカー名 | 光洋リンドバーグ(JTEKTサーモシステム) (JTEKT Thermo Systems) |
| 型番 | KTF773N-AS |
| キーワード | 熱処理 フォーミングガスアニール |
| 仕様・特徴 | N2またはフォーミングガスによる熱処理を行う装置 使用温度：400-700℃ 使用可能ガス：N2, フォーミングガス 対応基板：Si基板専用 φ4インチ 以下 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-403 |
