酸化・熱処理装置
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-401 |
|---|---|
| 分類 |
熱処理・ドーピング > 酸化 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | 酸化・熱処理装置 (Oxidation/Thermal Processing System) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES² |
| メーカー名 | 光洋サーモシステム(JTEKTサーモシステム） (JTEKT Thermo Systems) |
| 型番 | Model 272H-300H15X070H |
| キーワード | 酸化 熱処理 |
| 仕様・特徴 | パイロジェニック(ウェット)酸化対応炉4本、ドライ酸化対応炉2本 使用温度：800-1050℃（一部1150℃） 使用可能ガス：O2, N2, H2（炉によって制限あり） 対応基板：Si集積回路プロセス専用 φ4インチ 以下 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-401 |
