無機洗浄バッチ層(クレセン)
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-102 |
|---|---|
| 分類 | 表面処理・洗浄 > ウェット処理 |
| 設備名称 | 無機洗浄バッチ層(クレセン) (Wet bench(Clesen)) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | クレセン (Clesen) |
| 型番 | CWC4+4M |
| キーワード | 集積回路・MEMS/センサプロセスの洗浄 ウェットエッチング処理 |
| 仕様・特徴 | 4インチウェハ1ケース(25枚)単位でのRCA洗浄およびDHF処理、DIW水洗が可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-102 |
