Alスパッタ装置(L-420S)
最終更新日：2025年9月24日
| 設備ID | TH-201 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | Alスパッタ装置(L-420S) (Metal Deposition System(L-420S)) |
| 設置機関 | 豊橋技術科学大学 |
| 設置場所 | IRES2 |
| メーカー名 | キヤノンアネルバ (Canon Anelva) |
| 型番 | L-420S-FHL |
| キーワード | 集積回路、MEMS/センサデバイス用金属膜成膜 DCスパッタ Al系材料(純Al、Al-1%Si) |
| 仕様・特徴 | 方式：DCスパッタ、フェイスアップ 対応試料：φ4インチ3枚またはφ2インチ6枚まで 材料：純Al、Al-1%Si |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TH-201 |
