イオンシャワー装置
最終更新日：2025年4月3日
| 設備ID | UT-611 |
|---|---|
| 分類 |
膜加工・エッチング > その他 成膜装置 > |
| 設備名称 | イオンシャワー装置 (Ion shower) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | エリオニクス (Elionix) |
| 型番 | EIS-200ERT-VE-G |
| キーワード | イオンビームエッチング、スパッタ |
| 仕様・特徴 | 真空中で加速されたイオンビームにより、サブミクロン領域でのアンダーカット・サイドカットの少ない異方性エッチングが可能です。 またスパッタによるCr, Wなどの成膜か可能です。使用ガス(イオン)：Ar |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=UT-611 |