自動フォトマスク現像装置
最終更新日：2025年4月3日
| 設備ID | UT-515 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | 自動フォトマスク現像装置 (Automatic Photomask Developper) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | アクテス京三株式会社 (Actes Kyosan Co.) |
| 型番 | ADE-3000S-MASK |
| キーワード | フォトマスク |
| 仕様・特徴 | フォトマスク（4、5インチ）の自動現像（現像→リンスン→振り切り）ができます。（製品はウエハの自動現像装置ですが、本拠点ではフォトマスク専用の現像装置として利用しています。） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=UT-515 |