大面積電子ビーム描画装置[BODEN50]
最終更新日：2025年4月3日
| 設備ID | AT-115 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 大面積電子ビーム描画装置[BODEN50] (Electron Beam Lithography System〔ELS-BODEN50〕) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | ELS-BODEN50 |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 最大試料サイズ：8インチφ 加速電圧：50kV 最小描画サイズ：20nm(@1nA) フィールドサイズ：最大1.5mm□ 最大ビーム電流：800nA 最大スキャンクロック：100MHz |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=AT-115 |
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