薄膜X線回折装置_Cu
最終更新日：2025年10月15日
| 設備ID | NM-216 |
|---|---|
| 分類 | 回折・散乱 > X線回折 |
| 設備名称 | 薄膜X線回折装置_Cu (TF-XRD_Cu) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 401室 |
| メーカー名 | リガク (Rigaku) |
| 型番 | SmartLab |
| キーワード | 微細構造の分析 |
| 仕様・特徴 | ・小角散乱測定 ・X線反射率 ・X線源：Cu Kα（ Max. 3 kW ） ・検出器：1次元型半導体検出器 ・試料部：試料水平型 ・測定可能粒子直径：1～100 nm（小角散乱） ・膜厚範囲：1～100 nm（反射率測定） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=NM-216 |
