自動フォトマスクエッチング装置AEP-3000S
最終更新日：2024年4月4日
| 設備ID | UT-510 |
|---|---|
| 分類 |
リソグラフィ > レジスト処理装置 膜加工・エッチング > ウェットエッチング |
| 設備名称 | 自動フォトマスクエッチング装置AEP-3000S (Auto Photomask Etching Machine) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム1 |
| メーカー名 | アクテス京三（株） (ActesKyosan Inc) |
| 型番 | AEP-3000S |
| キーワード | フォトマスク作製 |
| 仕様・特徴 | 東京大学の電子線描画装置を用いて5009サイズのフォトマスクを作製するために使用する自動クロムエッチング装置。 試料サイズ：Φ2ｰΦ6インチ、または100x100mm プログラム設定：1プログラム最大99ステップ、50プログラム保存可能 回転数： ０－3000rpm 開店時間： ０－999sec ノズル：薬液 2系等、リンス １系統 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=UT-510 |
