UVナノインプリント露光装置
最終更新日：2025年5月23日
| 設備ID | IT-039 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > ナノインプリント |
| 設備名称 | UVナノインプリント露光装置 (UV Nanoimprint Lithography System) |
| 設置機関 | 東京科学大学（旧：東京工業大学） |
| 設置場所 | 科学大（旧：東工大）大岡山キャンパス |
| メーカー名 | EVG (EVG) |
| 型番 | EVG620NT |
| キーワード | 微細構造形成、ナノインプリント/ nanoimprint lithography |
| 仕様・特徴 | UVによるナノインプリント露光装置。4inchまで対応。解像度限界 L/S 50nm。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=IT-039 |
