プログラム・ホットプレート
最終更新日：2024年3月27日
| 設備ID | RO-122 |
|---|---|
| 分類 |
熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | プログラム・ホットプレート (Program hot plate) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR東棟１F |
| メーカー名 | アズワン株式会社 (AS ONE) |
| 型番 | EC-1200NP |
| キーワード | 昇温、温度＆時間管理、 プログラム制御 |
| 仕様・特徴 | ・16ステップ以内のプログラムを4パターン記憶 ・制御可能温度範囲：室温＋50 ～ 300℃ ・プレート面積：412*312mm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=RO-122 |
