水素アニール装置
最終更新日：2023年6月27日
| 設備ID | TU-108 |
|---|---|
| 分類 |
熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール 熱処理・ドーピング > その他 表面処理・洗浄 > その他 |
| 設備名称 | 水素アニール装置 (Hydrogen annealing) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | オリジナル (Original) |
| 型番 | - |
| キーワード | 水素雰囲気におけるSi表面の平滑化処理など |
| 仕様・特徴 | 東北大学大学院工学研究科 金森 義明 教授が開発した装置 赤外線ランプ加熱 温度：最高1100℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TU-108 |
