分光エリプソメーター [M2000]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-655 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > エリプソメーター |
| 設備名称 | 分光エリプソメーター [M2000] (Spectroscopic Ellipsometer [M2000]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟 505号室 |
| メーカー名 | ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社 (J.A.Woollam Co., Inc.) |
| 型番 | M2000 |
| キーワード | エリプソメータ、膜厚測定、屈折率、薄膜、多層膜、エリプソメーター/ Ellipsometer |
| 仕様・特徴 | ・波長範囲：250 ~ 1000 nm ・補償子：回転式 ・入射角：自動制御、45～90° |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=NM-655 |
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