スパッタ装置（Al用）
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | RO-321 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | スパッタ装置（Al用） (Sputtering system for Al, Ti, and TiN deposition) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR西棟１F |
| メーカー名 | 株式会社エイコー (EIKO CORPORATION) |
| 型番 | |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：２inch、cut wafer 超高真空仕様、Al以外にTi, TiNのスパッタが可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=RO-321 |
