プラズマCVD(PECVD)装置
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最終更新日：2026年4月30日
| 設備ID | RO-315 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | プラズマCVD(PECVD)装置 (Plasma-enhanced CVD reactor) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR西棟１F |
| メーカー名 | アルパック (ULVAC, Inc.) |
| 型番 | CPD-1108S |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：２inch、cut wafer SiO2,SiN薄膜の堆積 |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=RO-315 |
