Rapid Thermal Anneal装置（RTA）
最終更新日：2024年4月10日
| 設備ID | RO-222 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | Rapid Thermal Anneal装置（RTA） (Rapid Thermal Annealing furnaces) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR西棟１F |
| メーカー名 | サムコ (Samco Inc.) |
| 型番 | サムコ製 HT-1000 |
| キーワード | 熱処理、RTA、RTP、アニール、 Thermal treatment |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：２inch、cut wafer 昇温速度最大200℃/s（N2, O2） 550℃以上 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=RO-222 |
