レイアウト設計ツール
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | RO-131 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > その他 |
| 設備名称 | レイアウト設計ツール (Mask layout design tool) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | 東棟 |
| メーカー名 | Tanner (Tanner) |
| 型番 | L-Edit |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | リソグラフィマスク設計用レイアウトエディター ＩＣ，ＭＥＭＳデバイス設計用ソフト。Tanner社L-Edit |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=RO-131 |
