マスクレス露光装置
最終更新日：2024年4月9日
| 設備ID | RO-113 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system) |
| 設置機関 | 広島大学 |
| 設置場所 | CR東棟１F |
| メーカー名 | ハイデルベルグ・インストルメンツ (Heidelberg Instruments) |
| 型番 | MLA150 |
| キーワード | |
| 仕様・特徴 | 対応wafer：２～６inch、cut wafer他 DMDを用いたレーザー露光装置 レーザ光源：375nm 7.2W 最小画素：1μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=RO-113 |
