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高精度ガス/蒸気吸着量測定装置 (Surface Area and Pore Size Distribution Analyzer)
- 設備ID
- NI-013
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本ベル (MicrotracBEL)
- 型番
- BELSORP-max
- 仕様・特徴
- 細孔分布：直径0.35～500nm
最小比表面積：0.01m2/ｇ（N2）
- 設備状況
- 稼働中
高周波透磁率測定装置 (High Frequency Permeability Measurement System)
- 設備ID
- NI-014
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 凌和電子 (Ryowa)
- 型番
- PMF-3000
- 仕様・特徴
- 1MHz～3GHzの広帯域透磁率測定
試料サイズ5～6（W）×5（L）×1mm（t）
- 設備状況
- 稼働中
振動試料型磁束計 (Vibrating Sample Magnetometer)
- 設備ID
- NI-015
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東英工業 (Toei Industry Co., Ltd.)
- 型番
- VSM-5
- 仕様・特徴
- 最大印可磁場 1.5 T
感度 1x10-5 emu
- 設備状況
- 稼働中
精密形状測定・局所磁気測定・局所電気特性評価装置 (Scanning Probe Microscope for Morphological, Magnetic and Electrical Characterization)
- 設備ID
- NI-017
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSPM-5200TM
- 仕様・特徴
- 分解能：原子分解能。カーボンナノファイバー(CNF)探針によるソフトマテリアル低損傷観察可能。
測定モード：形状、電気特性、磁気特性測定。
- 設備状況
- 稼働中
磁気特性測定装置 (Magnetic Property Measurement System)
- 設備ID
- NI-018
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本カンタム・デザイン (Quantum Design Japan, Inc.)
- 型番
- MPMS3
- 仕様・特徴
- 最大印可磁場 ７ T
感度(VSM) 1x10-8 emu
交流磁化測定が可能
- 設備状況
- 稼働中
走査電子顕微鏡 (Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- NI-019
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech Science Corporation)
- 型番
- S-4700
- 仕様・特徴
- FE-SEM、100倍～500K倍観察、EDX分析装置付属
- 設備状況
- 稼働中
ICP発光分光分析装置 (Inductively coupled plasma optical emission spectrometer)
- 設備ID
- NI-020
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 島津サイエンス (Shimadzu Corporation)
- 型番
- ICPE-9820
- 仕様・特徴
- 1．ICP発光分光分析装置本体（マルチチャンネル型、波長範囲167～800 nm）
2．フッ酸試料導入オプション
3．オートサンプラ（15ml容器60本自動測定）
- 設備状況
- 稼働中
複合ビーム加工観察装置群 (Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscopes)
- 設備ID
- NI-021
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子、マイクロサポート (JEOL, Micro Support Co.,Ltd)
- 型番
- JIB-4700F, AxisPro FC
- 仕様・特徴
- 1. FIB：加速電圧1～30kV、ビーム電流1pA ～90nA、倍率×50～×1,000,000
2.SEM：加速電圧1～30kV、倍率×10 ～ 1,000,000
3.最大試料サイズ：Φ30mm×高さ15mm
4.電動マイクロマニピュレーターシステム付設（AxisPro FC: TEM観察薄片のピックアップ用）
- 設備状況
- 稼働中
プラズマ・ガス凝縮クラスター堆積装置 (Plasma-Gas-Condensation Cluster Deposition Apparatus)
- 設備ID
- NI-101
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本ビーテック (Vieetech Japan)
- 型番
- 特型
- 仕様・特徴
- クラスターサイズ 直径3～15nm
直流マグネトロンスパッタリング方式
スパッタ電力 最大500W
基板サイズ 最大2cmX2cm
- 設備状況
- 稼働中
スパッタリング蒸着装置 (Sputtering Deposition Apparatus)
- 設備ID
- NI-102
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC, Inc.)
- 型番
- SPC-2000HC
- 仕様・特徴
- ヘリコン波励起スパッタリング
RF電源13.56MHz 200W
- 設備状況
- 稼働中