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電界放出型 走査電子顕微鏡  (Field-Emission Scanning Electron Microscope)

設備ID
WS-013
設置機関
早稲田大学
設備画像
電界放出型 走査電子顕微鏡
メーカー名
株式会社 日立ハイテク  (Hitachi High-Tech Corporation)
型番
S5500
仕様・特徴
試料サイズ 平面5.0mmX9.5mmX3.5mmH
断面2.0mmX6.0mmX5.0mmH
倍率 ~×2M (高倍率モード)
設備状況
稼働中

紫外線露光装置 (ultraviolet lithography)

設備ID
WS-014
設置機関
早稲田大学
設備画像
紫外線露光装置
メーカー名
ズース マイクロテック グループ (SUSS MicroTec Group)
型番
MA6/BA6
仕様・特徴
ズースマイクロテック社製MA6
小片~4インチまで露光可能
最小線幅1μm
UV両面マスクアライナー
設備状況
稼働中

電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithography Exposure)

設備ID
WS-015
設置機関
早稲田大学
設備画像
電子ビーム描画装置
メーカー名
株式会社エリオニクス (ELIONIX INC.)
型番
ELS-7500
仕様・特徴
最小線幅:10 nm
基板サイズ10mm角~4インチ
加速電圧:5~50 kV
設備状況
稼働中

レーザー直接描画装置 (Advanced Maskless Aligner )

設備ID
WS-016
設置機関
早稲田大学
設備画像
レーザー直接描画装置
メーカー名
ハイデルベルグ・ジャパン株式会社 (Heidelberger Druckmaschinen AG)
型番
MLA150
仕様・特徴
(375nm Diode、SU-8対応)
設備状況
稼働中

顕微ラマン分光装置 (Raman Microscope)

設備ID
WS-020
設置機関
早稲田大学
設備画像
 顕微ラマン分光装置
メーカー名
株式会社 東京インスツルメンツ (Tokyo Instruments, Inc.)
型番
nanofinder 30
仕様・特徴
面分解能200nm
高さ解能0.5nm
時間分解能2msの3次元イメージング可能
10cm□位
1回の測定範囲は10μm位
設備状況
稼働中

触針式段差計 (Stylus Profiler)

設備ID
WS-021
設置機関
早稲田大学
設備画像
触針式段差計
メーカー名
ケーエルエー・テンコール株式会社 (KLA Corporation. )
型番
プロファイラーP-15
仕様・特徴
試料サイズ150mm
3D表面形状測定器
基板サイズ ~6
設備状況
稼働中

高耐圧デバイス測定装置+ 高耐圧プローバ (high votage semiconductor device analyzer)

設備ID
WS-022
設置機関
早稲田大学
設備画像
高耐圧デバイス測定装置+ 高耐圧プローバ
メーカー名
プローバ:長瀬産業株式会社(特注品)測定装置:アジレント社製B1505A (NAGASE & CO., LTD.)
型番
プローバ:長瀬産業社製(特注品) 測定装置:アジレント社製B1505A
仕様・特徴
10K~600Kの真空環境下での高耐圧デバイス(2000V又は20A MAX)測定可能、25mmx25mm以下(測定範囲)
測定装置:アジレント社製B1505A
3000V までの電圧印加と高精度測定
最小パルス幅50 μs の
大電流モジュール(最大20 A)
カーブトレーサ・モードでの
デバイスのクイックチェック
設備状況
稼働中

高性能半導体デバイス アナライザ+プローバ (semiconductor device analyzer)

設備ID
WS-023
設置機関
早稲田大学
設備画像
高性能半導体デバイス アナライザ+プローバ
メーカー名
キーサイト・テクノロジー株式会社 (Keysight Technologies, Inc.)
型番
プローバ:長瀬産業社製(特注品)測定装置:アジレント社製B1500ALCRメータ4284A
仕様・特徴
・0.1 fAおよび0.5 μVまでの電流/電圧(IV)測定をサポート
・ハイ・パワー/メモリ・デバイス・テストのための高電圧パルス発生(最大±40 V)をサポート
・準静的および中間周波数キャパシタンス/電圧(CV)測定をサポート
設備状況
稼働中

誘導結合プラズマ 質量分析装置  (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)

設備ID
WS-024
設置機関
早稲田大学
設備画像
 誘導結合プラズマ 質量分析装置
メーカー名
サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社 (Thermo Fisher Scientific K.K.)
型番
iCAP Qc ICP-MS
仕様・特徴
2-290までの質量数の元素をアルゴンプラズマ内に噴霧、イオン化させ、元素固有の質量数をモニターする事により元素を超高感度(一例:Li(7):約3ppt,
Na(23):約2ppt, Zn(64):約1ppt, Pb(208):約0.5ppt)で検出が可能な装置
設備状況
稼働中

フーリエ変換赤外分光計  (Fourier Transform Infrared Spectroscopy)

設備ID
WS-025
設置機関
早稲田大学
設備画像
フーリエ変換赤外分光計
メーカー名
日本分光株式会社 (JASCO Corporation)
型番
FT/IR-6200+加熱ATR測定部改造
仕様・特徴
測定波数範囲: 7800~350 cm-1
測定波数拡張範囲: 15000~20cm-1
表示波数範囲: 15000~0 cm-1
波数正確さ: ±0.01 cm-1以内(理論値)
設備状況
稼働中
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