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電界放出型 走査電子顕微鏡 (Field-Emission Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- WS-013
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- 株式会社 日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation)
- 型番
- S5500
- 仕様・特徴
- 試料サイズ 平面5.0mmX9.5mmX3.5mmH
断面2.0mmX6.0mmX5.0mmH
倍率 ~×2M (高倍率モード)
- 設備状況
- 稼働中
紫外線露光装置 (ultraviolet lithography)
- 設備ID
- WS-014
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- ズース マイクロテック グループ (SUSS MicroTec Group)
- 型番
- MA6/BA6
- 仕様・特徴
- ズースマイクロテック社製MA6
小片~4インチまで露光可能
最小線幅1μm
UV両面マスクアライナー
- 設備状況
- 稼働中
電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithography Exposure)
- 設備ID
- WS-015
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- 株式会社エリオニクス (ELIONIX INC.)
- 型番
- ELS-7500
- 仕様・特徴
- 最小線幅:10 nm
基板サイズ10mm角~4インチ
加速電圧:5~50 kV
- 設備状況
- 稼働中
レーザー直接描画装置 (Advanced Maskless Aligner )
- 設備ID
- WS-016
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- ハイデルベルグ・ジャパン株式会社 (Heidelberger Druckmaschinen AG)
- 型番
- MLA150
- 仕様・特徴
- (375nm Diode、SU-8対応)
- 設備状況
- 稼働中
顕微ラマン分光装置 (Raman Microscope)
- 設備ID
- WS-020
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- 株式会社 東京インスツルメンツ (Tokyo Instruments, Inc.)
- 型番
- nanofinder 30
- 仕様・特徴
- 面分解能200nm
高さ解能0.5nm
時間分解能2msの3次元イメージング可能
10cm□位
1回の測定範囲は10μm位
- 設備状況
- 稼働中
触針式段差計 (Stylus Profiler)
- 設備ID
- WS-021
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- ケーエルエー・テンコール株式会社 (KLA Corporation. )
- 型番
- プロファイラーP-15
- 仕様・特徴
- 試料サイズ150mm
3D表面形状測定器
基板サイズ ~6
- 設備状況
- 稼働中
高耐圧デバイス測定装置+ 高耐圧プローバ (high votage semiconductor device analyzer)
- 設備ID
- WS-022
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- プローバ:長瀬産業株式会社(特注品)測定装置:アジレント社製B1505A (NAGASE & CO., LTD.)
- 型番
- プローバ:長瀬産業社製(特注品) 測定装置:アジレント社製B1505A
- 仕様・特徴
- 10K~600Kの真空環境下での高耐圧デバイス(2000V又は20A MAX)測定可能、25mmx25mm以下(測定範囲)
測定装置:アジレント社製B1505A
3000V までの電圧印加と高精度測定
最小パルス幅50 μs の
大電流モジュール(最大20 A)
カーブトレーサ・モードでの
デバイスのクイックチェック
- 設備状況
- 稼働中
高性能半導体デバイス アナライザ+プローバ (semiconductor device analyzer)
- 設備ID
- WS-023
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- キーサイト・テクノロジー株式会社 (Keysight Technologies, Inc.)
- 型番
- プローバ:長瀬産業社製(特注品)測定装置:アジレント社製B1500ALCRメータ4284A
- 仕様・特徴
- ・0.1 fAおよび0.5 μVまでの電流/電圧(IV)測定をサポート
・ハイ・パワー/メモリ・デバイス・テストのための高電圧パルス発生(最大±40 V)をサポート
・準静的および中間周波数キャパシタンス/電圧(CV)測定をサポート
- 設備状況
- 稼働中
誘導結合プラズマ 質量分析装置 (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)
- 設備ID
- WS-024
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社 (Thermo Fisher Scientific K.K.)
- 型番
- iCAP Qc ICP-MS
- 仕様・特徴
- 2-290までの質量数の元素をアルゴンプラズマ内に噴霧、イオン化させ、元素固有の質量数をモニターする事により元素を超高感度(一例:Li(7):約3ppt,
Na(23):約2ppt, Zn(64):約1ppt, Pb(208):約0.5ppt)で検出が可能な装置
- 設備状況
- 稼働中
フーリエ変換赤外分光計 (Fourier Transform Infrared Spectroscopy)
- 設備ID
- WS-025
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- 日本分光株式会社 (JASCO Corporation)
- 型番
- FT/IR-6200+加熱ATR測定部改造
- 仕様・特徴
- 測定波数範囲: 7800~350 cm-1
測定波数拡張範囲: 15000~20cm-1
表示波数範囲: 15000~0 cm-1
波数正確さ: ±0.01 cm-1以内(理論値)
- 設備状況
- 稼働中