共用設備検索結果
"その他"で検索した結果 7件
フリーワード検索
表示件数
真空紫外露光装置 (Vacuum ultraviolet light exposure system)
- 設備ID
- HK-627
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- エヌ工房 (N ceator)
- 型番
- PC-01-H
- 仕様・特徴
- 試料サイズ：最大1インチ
- 設備状況
- 稼働中
UVオゾンクリーナー・キュア装置 (UV Ozone Cleaner & DeepUV Cure Equipment)
- 設備ID
- KT-230
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ(株) (Samco Inc.)
- 型番
- UV-300HKU
- 仕様・特徴
- サムコ株式会社 UV-300HKU
UVランプと高濃度オゾナイザを備える
Φ8インチウェハ対応
O2、N2ガス
ステージ加熱：室温～300℃
- 設備状況
- 稼働中
UVオゾンクリーナー [UV-1] (UV Ozone Cleaner [UV-1])
- 設備ID
- NM-606
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![UVオゾンクリーナー [UV-1]](data/facility_item/NM-606.jpg)
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- UV-1
- 仕様・特徴
- ・用途：基板クリーニング，表面改質
・光源：紫外線ランプ （184.9nmおよび253.7nm）
・オゾンジェネレータ：無声放電方式高濃度オゾナイザー
・ステージ温度：室温～300度
・最大試料サイズ：φ8 inch
- 設備状況
- 稼働中
スピン乾燥機 (Spin Dryer)
- 設備ID
- TH-152
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- セミツール (Semitool)
- 型番
- SRD270(改)
- 仕様・特徴
- 集積回路製造のメタルプロセス前までの、DIW後のウェーハ乾燥に用いることができます。
対応ウェーハサイズ：φ2インチ、φ4インチ
- 設備状況
- 稼働中
UV/オゾン処理装置 (UV/O3 Treatment System)
- 設備ID
- TH-371
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- UV-1
- 仕様・特徴
- UV・オゾンにより試料表面の改質処理を行う。
使用ガス：O2
ステージサイズ：φ200mm
- 設備状況
- 稼働中
水素アニール装置 (Hydrogen annealing)
- 設備ID
- TU-108
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- オリジナル (Original)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- 東北大学大学院工学研究科 金森 義明 教授が開発した装置
赤外線ランプ加熱
温度：最高1100℃
- 設備状況
- 稼働中
パリレンコーター (Parylene Coater)
- 設備ID
- UT-709
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 米国SCS社 (Specialty Coating Systems)
- 型番
- PDS2010
- 仕様・特徴
- 8インチまでの成膜が可能。
- 設備状況
- 稼働中
"その他"で検索した結果 7件