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"ＣＯ２洗浄"で検索した結果 2件
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3次元レーザ・リソグラフィシステム群 (3 dimentional laser lithography system)
- 設備ID
- NU-246
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- Nanoscribe KISCO (Nanoscribe KISCO)
- 型番
- Photonic Professional SCLEAD3CD2000
- 仕様・特徴
- Nanoscribe Photonic Professional
・2次元加工精度：100 nm
・3次元加工精度：150 nm
・対応データ：DXF, STL
KISCO SCLEAD3CD2000
・設計温度：100 ℃
・設計圧力：20 MPa
- 設備状況
- 稼働中
超臨界洗浄・乾燥装置(SCRD4) (Supercritical Cleaning and Drying System)
- 設備ID
- TH-153
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- レグザム (Rexxam)
- 型番
- SCRD4
- 仕様・特徴
- MEMS可動構造形成時の水洗後乾燥をCO2超臨界乾燥にて行え、微小可動構造の破損やスティクションを防止。φ4インチウェハサイズまで対応
- 設備状況
- 稼働中
"ＣＯ２洗浄"で検索した結果 2件