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高圧ジェットリフトオフ装置 ((High Pressure Jet Lift-off Equipment)
- 設備ID
- AT-092
- 設置機関
- 産業技術総合研究所(AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- カナメックス (Kanamex)
- 型番
- KLO-150CBU
- 仕様・特徴
- ・型式:KLO-150CBU
・試料サイズ:小片20mm□~150mmφ
・回転数:0~2000rpm
・NMP処理温度:80℃
- 設備状況
- 稼働中
ウエハスピン現像装置 (Wafer spin developer )
- 設備ID
- GA-015
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- 滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO)
- 型番
- AD-1200(無機用),AD-1200(有機用)
- 仕様・特徴
- 基板サイズ:φ4"以下
基板ホルダー:真空吸着式
基板回転数:0~3000rpm 可変式
処理時間:999sec/stop(1sec単位)
使用薬液:無機系アルカリ液対応と有機溶剤対応
処理方法:スプレースイングアーム式
- 設備状況
- 稼働中
蒸気二流体洗浄装置 [SSM101] (Steam Two-Fluid Cleaning System [SSM101])
- 設備ID
- NM-668
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- HUGパワー (HUG Power)
- 型番
- SSM101
- 仕様・特徴
- ・用途:基板洗浄、リフトオフ
・手法:蒸気二流体超音速噴射
・溶液:純水
・乾燥:スピン乾燥、N2ブロー
・最大試料サイズ:φ6inch
- 設備状況
- 稼働中
無機ドラフトチャンバー(ダルトン) (Wet bench(DALTON DF-1))
- 設備ID
- TH-101
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- ダルトン (DALTON)
- 型番
- DF-1, ECD-3000BEW
- 仕様・特徴
- RCA洗浄、DHF、BHF、混酸等の調合、昇温、ウェハ処理、DIW水洗、スピン乾燥またはN2ブロー乾燥が可能
- 設備状況
- 稼働中
無機洗浄バッチ層(クレセン) (Wet bench(Clesen))
- 設備ID
- TH-102
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- クレセン (Clesen)
- 型番
- CWC4+4M
- 仕様・特徴
- 4インチウェハ1ケース(25枚)単位でのRCA洗浄およびDHF処理、DIW水洗が可能
- 設備状況
- 稼働中
有機ドラフトチャンバー(ダルトン) (Wet bench(DALTON ECS-1))
- 設備ID
- TH-103
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- ダルトン (DALTON)
- 型番
- ECS-1
- 仕様・特徴
- イエロールーム内に設置
リソグラフィ後の現像、リンス処理が可能な有機薬品用ドラフタ
DIW使用可能
N2ブロー可能
- 設備状況
- 稼働中
マスク加工装置(KES-200NP2) (Mask Fabrication System)
- 設備ID
- TH-151
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- カナメックス (Kanamex)
- 型番
- KES-200NP2
- 仕様・特徴
- マスク乾板製作時のクロムエッチングおよび硫酸過水によるレジスト剥離装置、イエロールーム内に設置。
対応乾板サイズ:5インチ角
- 設備状況
- 稼働中
洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers)
- 設備ID
- TT-008
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東朋テクノロジー (Toho Technology Co.)
- 型番
- 特注
- 仕様・特徴
- シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群
小型~太陽電池156mm角基板等
- 設備状況
- 稼働中
エッチングチャンバー (Draft chamber)
- 設備ID
- TU-001
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アズワン (As one)
- 型番
- PSH1200
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
- 設備状況
- 稼働中
有機ドラフトチャンバー (Draft Chamber for organic)
- 設備ID
- TU-002
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
- 設備状況
- 稼働中