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高圧ジェットリフトオフ装置 ((High Pressure Jet Lift-off Equipment)

設備ID
AT-092
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
設備画像
高圧ジェットリフトオフ装置
メーカー名
カナメックス (Kanamex)
型番
KLO-150CBU
仕様・特徴
・型式:KLO-150CBU
・試料サイズ:小片20mm□~150mmφ
・回転数:0~2000rpm
・NMP処理温度:80℃
設備状況
稼働中

ウエハスピン現像装置 (Wafer spin developer )

設備ID
GA-015
設置機関
香川大学
設備画像
ウエハスピン現像装置
メーカー名
滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO)
型番
AD-1200(無機用),AD-1200(有機用)
仕様・特徴
基板サイズ:φ4"以下
基板ホルダー:真空吸着式
基板回転数:0~3000rpm 可変式
処理時間:999sec/stop(1sec単位)
使用薬液:無機系アルカリ液対応と有機溶剤対応
処理方法:スプレースイングアーム式
設備状況
稼働中

蒸気二流体洗浄装置 [SSM101] (Steam Two-Fluid Cleaning System [SSM101])

設備ID
NM-668
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
蒸気二流体洗浄装置 [SSM101]
メーカー名
HUGパワー (HUG Power)
型番
SSM101
仕様・特徴
・用途:基板洗浄、リフトオフ
・手法:蒸気二流体超音速噴射
・溶液:純水
・乾燥:スピン乾燥、N2ブロー
・最大試料サイズ:φ6inch
設備状況
稼働中

無機ドラフトチャンバー(ダルトン) (Wet bench(DALTON DF-1))

設備ID
TH-101
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
無機ドラフトチャンバー(ダルトン)
メーカー名
ダルトン (DALTON)
型番
DF-1, ECD-3000BEW
仕様・特徴
RCA洗浄、DHF、BHF、混酸等の調合、昇温、ウェハ処理、DIW水洗、スピン乾燥またはN2ブロー乾燥が可能
設備状況
稼働中

無機洗浄バッチ層(クレセン) (Wet bench(Clesen))

設備ID
TH-102
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
無機洗浄バッチ層(クレセン)
メーカー名
クレセン (Clesen)
型番
CWC4+4M
仕様・特徴
4インチウェハ1ケース(25枚)単位でのRCA洗浄およびDHF処理、DIW水洗が可能
設備状況
稼働中

有機ドラフトチャンバー(ダルトン) (Wet bench(DALTON ECS-1))

設備ID
TH-103
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
有機ドラフトチャンバー(ダルトン)
メーカー名
ダルトン (DALTON)
型番
ECS-1
仕様・特徴
イエロールーム内に設置
リソグラフィ後の現像、リンス処理が可能な有機薬品用ドラフタ
DIW使用可能
N2ブロー可能
設備状況
稼働中

マスク加工装置(KES-200NP2) (Mask Fabrication System)

設備ID
TH-151
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
マスク加工装置(KES-200NP2)
メーカー名
カナメックス (Kanamex)
型番
KES-200NP2
仕様・特徴
マスク乾板製作時のクロムエッチングおよび硫酸過水によるレジスト剥離装置、イエロールーム内に設置。
対応乾板サイズ:5インチ角
設備状況
稼働中

洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers)

設備ID
TT-008
設置機関
豊田工業大学
設備画像
洗浄ドラフト一式
メーカー名
東朋テクノロジー (Toho Technology Co.)
型番
特注
仕様・特徴
シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群
小型~太陽電池156mm角基板等
設備状況
稼働中

エッチングチャンバー (Draft chamber)

設備ID
TU-001
設置機関
東北大学
設備画像
エッチングチャンバー
メーカー名
アズワン (As one)
型番
PSH1200
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
設備状況
稼働中

有機ドラフトチャンバー (Draft Chamber for organic)

設備ID
TU-002
設置機関
東北大学
設備画像
有機ドラフトチャンバー
メーカー名
 ()
型番
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
設備状況
稼働中
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