共用設備検索結果
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超臨界洗浄・乾燥装置(SCRD4) (Supercritical Cleaning and Drying System)
- 設備ID
- TH-153
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- レグザム (Rexxam)
- 型番
- SCRD4
- 仕様・特徴
- MEMS可動構造形成時の水洗後乾燥をCO2超臨界乾燥にて行え、微小可動構造の破損やスティクションを防止。φ4インチウェハサイズまで対応
- 設備状況
- 稼働中
アッシング装置 (Ashing System)
- 設備ID
- TH-310
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- PX-250M, PC-1100
- 仕様・特徴
- 酸素プラズマとCF4ガスによるレジスト除去。O2ガスプラズマによる表面改質。電極プレートの差し替えにより、低ダメージのプラズマモードと高レートのRIEモードとを切り替え使用可能
使用ガス：O2, CF4
- 設備状況
- 稼働中
UV/オゾン処理装置 (UV/O3 Treatment System)
- 設備ID
- TH-371
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- UV-1
- 仕様・特徴
- UV・オゾンにより試料表面の改質処理を行う。
使用ガス：O2
ステージサイズ：φ200mm
- 設備状況
- 稼働中
洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers)
- 設備ID
- TT-008
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東朋テクノロジー (Toho Technology Co.)
- 型番
- 特注
- 仕様・特徴
- シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群
小型～太陽電池156mm角基板等
- 設備状況
- 稼働中
エッチングチャンバー (Draft chamber)
- 設備ID
- TU-001
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アズワン (As one)
- 型番
- PSH1200
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
- 設備状況
- 稼働中
有機ドラフトチャンバー (Draft Chamber for organic)
- 設備ID
- TU-002
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
- 設備状況
- 稼働中
リン酸槽 (Draft chamber for SiN etching)
- 設備ID
- TU-003
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- - (-)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
- 設備状況
- 稼働中
スピン乾燥機 (Spin dryer)
- 設備ID
- TU-004
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東邦化成 (Toho Kasei)
- 型番
- ZAA-4
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：20mm角～6インチ
- 設備状況
- 稼働中
4スピン乾燥機 (4 Spin dryer)
- 設備ID
- TU-005
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- SEMITOOL (SEMITOOL)
- 型番
- PSC101
- 仕様・特徴
- カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 設備状況
- 稼働中
6スピン乾燥機 (6 Spin dryer)
- 設備ID
- TU-006
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- SEMITOOL (SEMITOOL)
- 型番
- PSC101
- 仕様・特徴
- カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 設備状況
- 稼働中