共用設備検索結果
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超高密度大気圧プラズマ装置 (Ultra-high density atomospheric pressure plasma system)
- 設備ID
- NU-235
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- FUJI (FUJI)
- 型番
- 特注
- 仕様・特徴
- ・大気圧プラズマ中のラジカルを用いた材料の表面処理（改質、洗浄）
・使用ガス：Ar，N2．Ar+O2
・電源：AC交流電源、9 kV，60 Hz
- 設備状況
- 稼働中
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor)
- 設備ID
- NU-237
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマ処理の際に生成する温度，ラジカル密度，励起種，表面分析をIn-situで行う．
・プロセスガス：H2，N2，Ar，O2，He
・基板温度：－10℃-60℃
・サンプル：4インチウエハ
- 設備状況
- 稼働中
表面解析プラズマビーム装置 (Plasma beam system with surface analysis)
- 設備ID
- NU-239
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマビームを材料表面に照射後のin-situ XPS評価により，表面-プラズマ間の反応の解析が可能．
・使用ガス：HBr，Ar，CF4，C4F8，Cl2，H2，N2，O2
- 設備状況
- 稼働中
in-situプラズマ照射表面分析装置 (In-situ plasma exposure and analysis system)
- 設備ID
- NU-240
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマ照射後の表面のin-situ XPS，FT-IR，STM分析が可能．
・プロセスガス：H2，N2，O2，Ar，He，SiH4，SF6，CF4
- 設備状況
- 稼働中
超臨界乾燥機 (Supercritical Dryer)
- 設備ID
- NU-246
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- KISCO (KISCO)
- 型番
- SCLEAD3CD2000
- 仕様・特徴
- KISCO SCLEAD3CD2000
・設計温度：100 ℃
・設計圧力：20 MPa
- 設備状況
- 稼働中
無機ドラフトチャンバー(ダルトン) (Wet bench(DALTON DF-1))
- 設備ID
- TH-101
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- ダルトン (DALTON)
- 型番
- DF-1, ECD-3000BEW
- 仕様・特徴
- RCA洗浄、DHF、BHF、混酸等の調合、昇温、ウェハ処理、DIW水洗、スピン乾燥またはN2ブロー乾燥が可能
- 設備状況
- 稼働中
無機洗浄バッチ層(クレセン) (Wet bench(Clesen))
- 設備ID
- TH-102
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- クレセン (Clesen)
- 型番
- CWC4+4M
- 仕様・特徴
- 4インチウェハ1ケース(25枚)単位でのRCA洗浄およびDHF処理、DIW水洗が可能
- 設備状況
- 稼働中
有機ドラフトチャンバー(ダルトン) (Wet bench(DALTON ECS-1))
- 設備ID
- TH-103
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- ダルトン (DALTON)
- 型番
- ECS-1
- 仕様・特徴
- イエロールーム内に設置
リソグラフィ後の現像、リンス処理が可能な有機薬品用ドラフタ
DIW使用可能
N2ブロー可能
- 設備状況
- 稼働中
マスク加工装置(KES-200NP2) (Mask Fabrication System)
- 設備ID
- TH-151
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- カナメックス (Kanamex)
- 型番
- KES-200NP2
- 仕様・特徴
- マスク乾板製作時のクロムエッチングおよび硫酸過水によるレジスト剥離装置、イエロールーム内に設置。
対応乾板サイズ：5インチ角
- 設備状況
- 稼働中
スピン乾燥機 (Spin Dryer)
- 設備ID
- TH-152
- 設置機関
- 豊橋技術科学大学
- 設備画像
- メーカー名
- セミツール (Semitool)
- 型番
- SRD270(改)
- 仕様・特徴
- 集積回路製造のメタルプロセス前までの、DIW後のウェーハ乾燥に用いることができます。
対応ウェーハサイズ：φ2インチ、φ4インチ
- 設備状況
- 稼働中