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高圧ジェットリフトオフ装置 ((High Pressure Jet Lift-off Equipment)
- 設備ID
- AT-092
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- カナメックス (Kanamex)
- 型番
- KLO-150CBU
- 仕様・特徴
- ・型式:KLO-150CBU
・試料サイズ:小片20mm□～150mmφ
・回転数:0～2000rpm
・NMP処理温度:80℃
- 設備状況
- 稼働中
ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡群 (Field emission scanning electron microscope)
- 設備ID
- GA-013
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子, 日本電子, 日本電子, ディエナー (JEOL, JEOL, JEOL, diener)
- 型番
- JSM-IT800SHL, JCM-7000, JFC-3000FC, Femto
- 仕様・特徴
- ・JSM-IT800SHL
サンプルサイズ：～φ100mm
分解能：0.7nm(20kV)1.3nm(1kV)
倍率：×27～5,480,000(表示倍率)
加速電圧：0.01～30kV
分析機能：EDS
・JCM-7000
サンプルサイズ：～φ25mm(傾斜回転有)～φ80mm(傾斜回転無)
倍率：×10～100,000
加速電圧：5kV、10kV、15kV(3段)
- 設備状況
- 稼働中
ウエハスピン現像装置 (Wafer spin developer )
- 設備ID
- GA-015
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- 滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO)
- 型番
- AD-1200（無機用），AD-1200（有機用）
- 仕様・特徴
- 基板サイズ：φ4"以下
基板ホルダー：真空吸着式
基板回転数：0～3000rpm 可変式
処理時間：999sec/stop（1sec単位）
使用薬液：無機系アルカリ液対応と有機溶剤対応
処理方法：スプレースイングアーム式
- 設備状況
- 稼働中
真空紫外露光装置 (Vacuum ultraviolet light exposure system)
- 設備ID
- HK-627
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- エヌ工房 (N ceator)
- 型番
- PC-01-H
- 仕様・特徴
- 試料サイズ：最大1インチ
- 設備状況
- 稼働中
UVオゾンクリーナー・キュア装置 (UV Ozone Cleaner & DeepUV Cure Equipment)
- 設備ID
- KT-230
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ(株) (Samco Inc.)
- 型番
- UV-300HKU
- 仕様・特徴
- サムコ株式会社 UV-300HKU
UVランプと高濃度オゾナイザを備える
Φ8インチウェハ対応
O2、N2ガス
ステージ加熱：室温～300℃
- 設備状況
- 稼働中
水蒸気プラズマクリーナー (Aqua Plasma Cleaner)
- 設備ID
- KT-231
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ(株) (Samco Inc.)
- 型番
- AQ-500KU
- 仕様・特徴
- サムコ株式会社 Aqua Plasma クリーナー AQ-500KU
水蒸気（H2O）を用いたプラズマ処理
樹脂接合、金属酸化膜の還元、有機洗浄、超親水性処理
200mm角試料まで対応
- 設備状況
- 稼働中
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1] (H2O Plasma Cleaner [AQ-500 #1])
- 設備ID
- NM-605
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]](data/facility_item/NM-605.jpg)
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- AQ-500
- 仕様・特徴
- ・用途：洗浄・還元・灰化・接合・親水化
・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O,O2
・最大試料サイズ：φ8 inch
・その他：自動運転プログラム
- 設備状況
- 稼働中
UVオゾンクリーナー [UV-1] (UV Ozone Cleaner [UV-1])
- 設備ID
- NM-606
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![UVオゾンクリーナー [UV-1]](data/facility_item/NM-606.jpg)
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- UV-1
- 仕様・特徴
- ・用途：基板クリーニング，表面改質
・光源：紫外線ランプ （184.9nmおよび253.7nm）
・オゾンジェネレータ：無声放電方式高濃度オゾナイザー
・ステージ温度：室温～300度
・最大試料サイズ：φ8 inch
- 設備状況
- 稼働中
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2] (H2O Plasma Cleaner [AQ-500 #2])
- 設備ID
- NM-638
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]](data/facility_item/1687416351_11.jpg)
- メーカー名
- サムコ株式会社 (Samco Inc.)
- 型番
- AQ-500
- 仕様・特徴
- ・出力：50-250W
・プロセスガス：H2O,O2
・最大試料サイズ：φ6 inch
- 設備状況
- 稼働中
蒸気二流体洗浄装置 [SSM101] (Steam Two-Fluid Cleaning System [SSM101])
- 設備ID
- NM-668
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![蒸気二流体洗浄装置 [SSM101]](data/facility_item/1738542615_24.jpg)
- メーカー名
- HUGパワー (HUG Power)
- 型番
- SSM101
- 仕様・特徴
- ・用途：基板洗浄、リフトオフ
・手法：蒸気二流体超音速噴射
・溶液：純水
・乾燥：スピン乾燥、N2ブロー
・最大試料サイズ：φ6inch
- 設備状況
- 稼働中