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超臨界洗浄・乾燥装置 (Supercritical Rinser & Dryer)

設備ID
KT-117
設置機関
京都大学
設備画像
超臨界洗浄・乾燥装置
メーカー名
(株)レクザム (Rexxam Co., Ltd.)
型番
SCRD401
仕様・特徴
超臨界CO2により微細構造物を変形・破壊せずに洗浄・乾燥が可能。
・基板サイズ:MAXΦ4
設備状況
稼働中

水素アニール装置 (Hydrogen annealing)

設備ID
TU-108
設置機関
東北大学
設備画像
水素アニール装置
メーカー名
オリジナル (Original)
型番
-
仕様・特徴
東北大学大学院工学研究科 金森 義明 教授が開発した装置
赤外線ランプ加熱
温度:最高1100℃
設備状況
稼働中

アニール炉 (Anneal funace)

設備ID
UT-808
設置機関
東京大学
設備画像
アニール炉
メーカー名
ジェイテクト(旧光洋サーモシステム(株)) (JTEKT(formaly Koyo Thermosystem))
型番
MT-2-8X32-AS
仕様・特徴
試料の熱処理ができる。
最高温度1150℃
設備状況
稼働中

恒温チャンバー (Forced Convection Oven)

設備ID
UT-810
設置機関
東京大学
設備画像
恒温チャンバー
メーカー名
ヤマト科学株式会社 (Yamato Scientific Co., Ltd.)
型番
DKN402
仕様・特徴
室温から+10~250℃までの温度を一定に保つ送風低温恒温器です。
【温度制御範囲】室温+10~250℃【温度調節精度】±1℃(at 210℃)JTM K05【温度分布精度】±2.5℃(at 210℃)JTM K05【最高温度到達時間】約90分【温度制御方式】P.I.D制御【タイマ】1分~99時間59分および100~999時間50分(タイマウエイト機能付)【運転機能】定値運転、プログラム運転、クイックオートストップ、オートスタート、オートストップ【プログラムモード】プログラム運転 30ステップ
設備状況
稼働中
  • 【更新日】0年0月0日
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