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段差計 (Surface profiler)

設備ID
NU-261
設置機関
名古屋大学
設備画像
段差計
メーカー名
小坂研究所 (Kosaka Laboratory)
型番
ET200A
仕様・特徴
・最大サンプルサイズ:φ160×厚さ52mm
・再現性 :1σ 0.3nm以内
・測定範囲 :Z:600µm,X:100mm
・分解能 :Z:0.1nm,X:0.1µm
・測定力:10µN~500µN
設備状況
稼働中

ナノ粒子解析装置(ゼーターサイザー) (Zetasizer)

設備ID
OS-123
設置機関
大阪大学
設備画像
ナノ粒子解析装置(ゼーターサイザー)
メーカー名
シスメックス株式会社(マルバーン) (SYSMEX CORPORATION (Malvern))
型番
NANO-ZS
仕様・特徴
【特徴】
動的散乱光法により溶液中に分散された粒子の粒子径や、ゼータ電位測定が可能な装置です。
低濃度または高濃度サンプルにも対応可能です。
(濃度0.1ppm~40%/Wでの測定が可能)
【仕様】
必要試料量:70μL
粒子径測定:0.6nm~6μm(動的光散乱法)
ゼータ電位測定:3nm~10μm
設備状況
稼働中

接触式膜厚測定器 (Stylus Profiler)

設備ID
OS-126
設置機関
大阪大学
設備画像
接触式膜厚測定器
メーカー名
ブルカージャパン株式会社 (Bruker Japan K.K.)
型番
DektakXT
仕様・特徴
【特徴】
10nm以下の段差を測定できる触針式の膜厚測定器です。
3D機能を備えたプロファイリングシステムを搭載しており、3Dマッピングが可能です。
【仕様】
試料ステージ:150mmφ
分解能:0.4nm
垂直測定レンジ:1 mm
膜厚測定再現性(1σ):5Å
走査距離上限:55mm
触針圧:1mg~15mg
設備状況
稼働中

分光エリプソメーター (Spectroscopic ellipsometer)

設備ID
RO-531
設置機関
広島大学
設備画像
分光エリプソメーター
メーカー名
J.A. Woollam Japan (J.A. Woollam Japan)
型番
M2000-D
仕様・特徴
測定可能最小膜厚10nm,分光波長範囲193~1000nm、
設備状況
稼働中

干渉式膜厚計 (Spectroscopic reflectometer)

設備ID
RO-532
設置機関
広島大学
設備画像
干渉式膜厚計
メーカー名
ナノメトリクスジャパン (Nanometrics Inc)
型番
AFT 5000
仕様・特徴
可視光及び紫外光光源、多層膜対応解析ソフト搭載。
設備状況
稼働中

表面段差計 (Profilometer)

設備ID
RO-534
設置機関
広島大学
設備画像
表面段差計
メーカー名
BRUKER (BRUKER)
型番
Dektak XT-E
仕様・特徴
対応wafer:4inch以下
垂直範囲:10nm~1mm、
垂直解像度:最高0.1nm
設備状況
稼働中

干渉膜厚計 (Optical Interferometer)

設備ID
TH-801
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
干渉膜厚計
メーカー名
大日本スクリーン (Screen)
型番
VM-1230
仕様・特徴
干渉膜厚計。SiO2,SiN,poly-Siの膜厚測定。多層膜も可
対応基板:φ2インチ~φ6インチ
設備状況
稼働中

段差計 (Surface Step Profiler)

設備ID
TH-802
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
段差計
メーカー名
小坂研究所 (Kosaka Lab)
型番
ET4000A
仕様・特徴
触針型段差計
最大サンプルサイズ:210×210mm
測定範囲:Z~100μm X~100mm
分解能 Z:0.1nm X:0.01μm
針圧:0.5μN~500μN
設備状況
稼働中

エリプソメータ (Ellipsometer)

設備ID
TH-803
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
エリプソメータ
メーカー名
ルドルフ (Rudolph)
型番
AutoEL-III
仕様・特徴
単色(632.8nm)エリプソメータ
試料サイズ:φ4インチ以下
設備状況
稼働中

4探針抵抗測定装置 (Four-Point Probe Measurement System)

設備ID
TH-841
設置機関
豊橋技術科学大学
設備画像
4探針抵抗測定装置
メーカー名
ナプソン (Napson)
型番
RT-6-8
仕様・特徴
4探針抵抗測定装置
対応基板:φ6インチ以下
設備状況
稼働中
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