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光学干渉式膜厚計 ( Film thickness measurement instruments)

設備ID
HK-626
設置機関
北海道大学
設備画像
光学干渉式膜厚計
メーカー名
フィルメトリクス (Filmetrics)
型番
F20-UV
仕様・特徴
膜厚測定範囲:1nm - 40µm
測定波長域:190-1100nm
設備状況
稼働中

微細形状測定機(段差計) (Microfigure Measuring Instrument)

設備ID
HK-630
設置機関
北海道大学
設備画像
微細形状測定機(段差計)
メーカー名
株式会社 小坂研究所 (Kosaka Laboratory Ltd.)
型番
ET200A
仕様・特徴
最大サンプルサイズΦ160×厚さ52mm
再現性1σ 0.3nm以内
測定範囲Z:600μm X:100mm
分解能Z:0.1nm X:0.1μm
測定力10μN~500μN
設備状況
稼働中

エリプソメータ (Ellipsometry)

設備ID
HK-706
設置機関
北海道大学
設備画像
エリプソメータ
メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
M-500S
仕様・特徴
Xe光源, 測定波長:350~800nm, 試料水平置き
設備状況
稼働中

触針式プロファイラー(段差計) (Alpha-Step D-500)

設備ID
HK-708
設置機関
北海道大学
設備画像
触針式プロファイラー(段差計)
メーカー名
KLA-Tencor (KLA-Tencor)
型番
D-500
仕様・特徴
サンプルステージ直径 140mm
段差測定再現性1σ 0.5nm以内
測定範囲Z:1200µm X:30mm
分解能Z:0.038nm
針圧範囲 0.03 ~15mg
設備状況
稼働中

赤外透過評価検査・非接触厚み測定機 (Infrared MEMS Analyzer)

設備ID
KT-227
設置機関
京都大学
設備画像
赤外透過評価検査・非接触厚み測定機
メーカー名
(株)モリテックス (MORITEX Corporation)
型番
IRise-T
仕様・特徴
赤外線により、非接触にて対象物の観察(内部観察)を行い、かつシリコンウェハ上の薄膜の厚みを測定することができる。
・基板 最大Φ8インチウェハー
・画像分解能 0.26μm/画素
・厚さ分解能 0.01μm以下( 5~150μm )
設備状況
稼働中

分光エリプソメーター (Spectral Ellipsometer)

設備ID
KT-311
設置機関
京都大学
設備画像
分光エリプソメーター
メーカー名
大塚電子(株) (Otsuka Electronics Co., Ltd.)
型番
FE-5000
仕様・特徴
・分光エリプソスペクトルの多波長同時測定
・基板(バルク)光学定数(n、k)が直接解析可能
・角度可変測定により、薄膜のより詳細な解析に対応
・測定膜厚範囲 1nm~1μm
・測定波長範囲 300nm~800nm
・サンプルサイズ 200mmx 200mm以上
設備状況
稼働中

ゼータ電位・粒径測定システム (Zeta Potential & Particle Size Analyzer)

設備ID
KT-313
設置機関
京都大学
設備画像
ゼータ電位・粒径測定システム
メーカー名
大塚電子(株) (Otsuka Electronics Co., Ltd.)
型番
ELSZ-2Plus
仕様・特徴
希薄から濃厚系試料のゼータ電位・粒子径測定が可能
・測定範囲 ゼータ電位:-200~200mV
・電気移動度:-20×10-4~20×10-4cm2/V・s
・粒子径:0.6nm~7μm
設備状況
稼働中

ダイナミック光散乱光度計 (Dynamic Light Scattering Spectrophotometer)

設備ID
KT-314
設置機関
京都大学
設備画像
ダイナミック光散乱光度計
メーカー名
大塚電子(株) (Otsuka Electronics Co., Ltd.)
型番
DLS-8000DH
仕様・特徴
・動的光散乱法
粒径分布、拡散係数分布を測定
・静的光散乱法
第二ビリアル係数・重量平均分子量・慣性半径の見積もり、重量平均分子量
・動的光散乱法:粒径分布、拡散係数分布測定
・静的光散乱法:第二ビリアル係数・重量平均分子量測定・慣性半径の見積もり
設備状況
稼働中

触針式段差計(CR) (Stylus Profilometer)

設備ID
KT-332
設置機関
京都大学
設備画像
触針式段差計(CR)
メーカー名
Veeco社(株)アルバック (Veeco Instruments Inc.ULVAC, Inc.)
型番
Dektak150
仕様・特徴
(株)アルバック社製 Dektak150
垂直分解能(最高) 0.1nm
測定距離 50μm~55mm
サンプルステージサイズ 直径 150mm
設備状況
稼働中

触針式段差計(加工評価室) (Stylus Profilometer)

設備ID
KT-333
設置機関
京都大学
設備画像
触針式段差計(加工評価室)
メーカー名
Veeco社(株)アルバック (Veeco Instruments Inc.ULVAC, Inc.)
型番
Dektak150
仕様・特徴
(株)アルバック社製 Dektak150
垂直分解能(最高) 0.1nm
測定距離 50μm~55mm
サンプルステージサイズ 直径 150mm
設備状況
稼働中
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