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断面試料作製装置（クロスセクションポリッシャ） (Specimen preparation equipment (CROSS SECTION POLISHER))
- 設備ID
- CT-014
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- IB-09010CP
- 仕様・特徴
- ・イオン加速電圧：2~6 kV
・イオンビーム径：500 μm
・ミリングスピード：100 μm/h
・最大搭載試料サイズ：11 mm(幅) x 10 mm(長さ) x 2 mm(厚さ)
・使用ガス：アルゴンガス
- 設備状況
- 稼働中
精密イオン研磨装置 ( Precision ion polishing system)
- 設備ID
- HK-407
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ガタン (Gatan)
- 型番
- PIPSII
- 仕様・特徴
- イオン加速電圧：1 ～ 6 kV
イオン入射角：最大±10°
液体窒素冷却装置
TVカメラ
- 設備状況
- 稼働中
クライオイオンスライサ― (CRYO ION SLICER)
- 設備ID
- KT-409
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- IB-09060CIS
- 仕様・特徴
- 1.アルゴンビーム薄片化装置（電圧1～8kV）
2.試料傾斜角最大±6度
3.クライオステージ（-120℃）
- 設備状況
- 稼働中
Arイオン研磨装置群 (Sample milling / polishing facilities)
- 設備ID
- KU-014
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- Gatan、Fischione、日本電子 (Gatan、Fischione、JEOL)
- 型番
- Gatan PIPSⅡ M 695、Fischione NanoMill Model1040、JEOL ION SLICER EM-09100IS
- 仕様・特徴
- 電子顕微鏡試料の調製
- 設備状況
- 稼働中
クロスセクションポリッシャ (CROSS SECTION POLISHER)
- 設備ID
- KU-021
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- IB-19530CP
- 仕様・特徴
- ブロードArイオンビームによる断面加工・鏡面仕上げ加工（ハイスループット仕様）
低ダメージで大面積加工が可能、SEM観察やEBSD解析に最適
- 設備状況
- 稼働中
原子分解能分析電子顕微鏡群 (Atomic-Resolution Analytical Electron Microscope)
- 設備ID
- NI-001
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子/ガタン (JEOL/Gatan, Inc./Gatan, Inc.)
- 型番
- JEM-ARM200F/PIPS II/Model 656
- 仕様・特徴
- ●走査透過電子顕微鏡（JEM-ARM200F）
加速電圧：80kV・200kV，電子銃：冷陰極電界放出型
EDS、EELS、デジタルCCDカメラシステム付設
●イオンミリング装置（PIPS II）
高精度で無機化合物、金属、複合材料などをAr+イオンにより研磨できる。イオン銃加速電圧：0.1～7kV 冷却ステージあり
●ディンプルグラインダー（Model 656）
イオンミリングの前処理として固体板状試料に3mmΦ以下のくぼみをつけることができる。
- 設備状況
- 稼働中
無損傷電子顕微鏡試料薄片化装置 (Damage-less TEM specimen milling apparatus)
- 設備ID
- NM-404
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- フィッシオーネ (Fischione)
- 型番
- Model 1040 Nanomill
- 仕様・特徴
- ・イオン：アルゴン
・イオンエネルギー：50～2000eV 可変
・イオン電流：1mA/cm2
・イオンビームサイズ：2μm
- 設備状況
- 稼働中
セラミックス試料作製装置群 (Ceramics sample preparation facilities)
- 設備ID
- NM-407
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ガタン日立ハイテク真空デバイスマルトーTECHNOORG-LINDA (GatanHitachi High-TechVacuum DeviceMarutoTECHNOORG-LINDA)
- 型番
- 695PIPS II（精密イオン研磨装置）656 DimpleGrinder（ディンプルグラインダ）TM4000Plus II（卓上SEM）VES-30T（マルチコーター）ML-180 DoctorLap（卓上研磨機）MS2 MICROSAW（小型精密切断器）
- 仕様・特徴
- ・精密イオン研磨装置：イオンビームエネルギー: 0.1～8 keV、試料冷却が可能、観察用デジタルズームカメラ付属
・ディンプルグラインダ：研磨ホイール径 15 mm、研磨荷重 0～40 g、自動停止機構付属
・卓上SEM：加速電圧：5－20kV、二次電子検出器および反射電子検出器
・マルチコーター：蒸着、イオンスパッタ、親水化処理
・卓上研磨機：研磨回転数 50～500 rpm
・小型精密切断器：50mmダイヤモンド回転刃
- 設備状況
- 稼働中
TEM試料作製装置群 (TEM sample preparation apparatus)
- 設備ID
- NM-516
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- Gatan 日本電子 BEUHLER Allied 日本レーザー電子 真空デバイス (Gatan JEOL BEUHLER Allied Nippon Laser & Electronics Vacuum Device)
- 型番
- Dimple Grinder(Model 656) PIPS II(Model 695) PIPS(Model 691) Ion Slicer(EM-09100IS) ISOMET Multiprep Carbon coater(JEC-560) Platinum coater(JFC-1600) Au coater(JFC-1500) Osmium coater(NL-OPC80A) Osmium coater(HPC-1SW) PECS(Model 682) Disc Cutter(Model 601) DII-29020HD
- 仕様・特徴
- Dimple Grinder(Model 656)
・初期試料厚さ: 200 µm以下
・自動停止機構付き
PIPS II(Model 695)
・加速電圧: 0.1～6 kV
・液体窒素冷却ステージ
PIPS(Model 691)
・加速電圧: 0.1～6 kV
・液体窒素冷却ステージ
Ion Slicer(EM-09100IS)
・加速電圧: 1～8 kV
ISOMET
・4インチダイヤモンド切断砥石
Multiprep
・試料傾斜角度: 0～10°
・精密マイクロメーター付き
PECS(Model 682)
・コーディング材料：カーボン, クロム, 金パラジウム, コバルト
Disc Cutter(Model 601)
・金属試料の3mmディスク切り出し
TEMグリッド等の親水化処理
- 設備状況
- 稼働中
材料系電子顕微鏡用試料作製装置群 (Material-Science TEM Sample Preparation Machines)
- 設備ID
- OS-007
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- アメテック株式会社 (AMETEK)
- 型番
- PIPS II
- 仕様・特徴
- 機械研摩装置、トライポッド、ディンプルグラインダー
- 設備状況
- 稼働中